位相シフター

位相シフター

RF位相シフター

2台のRF(高周波)電源の出力の位相差を自由に設定制御します。

これは半導体製造工程にてひとつの真空反応室に複数のRF電源の出力を供給する場合にこの2つのRF電源出力の位相差を制御することにより安定した処理結果を得るための技術です。

特にエッチング装置においてこの位相差が重要となります。

この位相差を最適値に設定し制御することによりエッチングを効率よく安定した状態で行えます。

半導体製造装置のプラズマ発生用RF電源として多用される13.56MHzにおける波形プラズマ発生用RF電源として多用される13.56MHzにおける波形の位相差を以下に示します。

 

2つのRF電源の出力の位相差は右図の様に観測されます。

波形1に対して波形2はその波長の1/6遅れている状態です。

 

P.R.A.製位相シフターの開発

従来の位相シフターではコイルやキャパシタを用いたオープンループ方式を採用しているため、以下に示す問題が発生してしまいます。

1. RF電源の出力の変化によって位相遅れが発生P.R.A.製位相シフター

2. 手動設定が基本で外部からのリモート設定が困難

3. 位相設定範囲が狭く、基準信号に対して遅れ方向のみ対応

当社ではクローズドループ方式を採用することによって、以上の問題点を解消し、多チャンネルの対応を可能とした位相シフターを開発いたします。

スペック等の詳細はこちらを御参照ください。

P.R.A.は、「プラズマを作る周辺装置」を製作・修理する企業です。
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